目前，集成电路晶体管普遍采用硅材料制造，当硅材料尺寸小于10纳米时，用它制造出的晶体管稳定性变差。而2010年获得诺贝尔物理学奖的 ______即使被切成1纳米宽的元件，导电性也很好。因此，它被普遍认为会最终替代硅，从而引发电子工业革命。A．热敏材料B．砷化镓材料C．光敏材料D．石墨烯材料
目前，集成电路晶体管普遍采用硅材料制造，当硅材料尺寸小于10纳米时，用它制造出的晶体管稳定性变差。而2010年获得诺贝尔物理学奖的 ______即使被切成1纳米宽的元件，导电性也很好。因此，它被普遍认为会最终替代硅，从而引发电子工业革命。
A．热敏材料
B．砷化镓材料
C．光敏材料
D．石墨烯材料
相关考题：
下列关于集成电路的叙述错误的是()。 A、将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上就构成集成电路。B、现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓。C、集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路。D、集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路。
45、在下列有关集成电路的叙述中，错误的是_________。A．现代集成电路使用的半导体材料主要是硅B．大规模集成电路一般以功能部件、子系统为集成对象C．我国第2代居民身份证中包含有IC芯片D．目前超大规模集成电路中晶体管的基本线条已小到1纳米左右
9、下面的叙述中错误的是________。A．现代信息技术的主要特征是采用电子技术进行信息的收集、传递、加工、存储、显示与控制。B．现代集成电路使用的半导体材料主要是硅。C．集成电路的工作速度主要取决于组成逻辑门电路的晶体管的数量。D．当集成电路的基本线宽小到纳米级时，将出现一些新的现象和效应。
硅平面工艺使制造性能稳定的平面晶体管成为可能。