烧结过程中总体是氧气性气氛,局部是__________气氛。

烧结过程中总体是氧气性气氛,局部是__________气氛。


相关考题:

烧结过程中总体时氧化性气氛,局部时( )气氛。A.还原性B.氧化性C.中性

烧结过程中宏观来讲是( )气氛。A.氧化B.还原C.中性

在烧结过程中,主要是氧化气氛,局部是__________。

在烧结过程中总体是氧化性气氛,局部是__________。

低温烧结过程中,铁酸钙的生成条件是合适的温度和__________气氛。

TiO2-x是因为()而产生的A.反应物中O2-离子浓度太小。B.在还原性气氛中烧结,气氛中氧的分压很低。C.在氧化性气氛中烧结。D.在烧结中有杂质参加。

BaTiO3陶瓷半导体化的方法有_______________。A.在缺氧气氛下烧结B.在富氧气氛下烧结C.进行施主离子掺杂D.进行受主离子掺杂

17、所有的瓷坯在还原气氛中的烧结温度均比在氧化气氛中高。

20、BaTiO3陶瓷半导体化的方法有_______________。A.在缺氧气氛下烧结B.在富氧气氛下烧结C.进行施主离子掺杂D.进行受主离子掺杂