用掩蔽法提高配位滴定的选择性，其实质是降低干扰离子的浓度。
用掩蔽法提高配位滴定的选择性，其实质是降低干扰离子的浓度。
相关考题：
在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。 A、控制酸度，降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度，降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
控制一定的PH值，用EDTP滴定Zn2＋、Mn2＋、Mg2＋、Cu2＋混合试液中的Cu2＋这种提高配位滴定选择性的方法属于（）。A、利用选择性的解蔽剂B、配位掩蔽法C、氧化还原掩蔽法D、其他滴定剂的应用
多选题在配位滴定中，消除干扰离子的方法有（）。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法