以下有关周向曝光技术的说法错误的是（）A、在进行周向曝光技术时把周向X光机或线源放在工件的圆心位置上B、周向曝光技术在整个圆周方向上射线束均与工件表面垂直，不存在透照厚度差C、采用周向曝光技术时，容器或圆筒内半径可以适当降低几何不清晰度的要求D、具有速度快、效率高，射线照相黑度均匀的特点
以下有关周向曝光技术的说法错误的是（）
- A、在进行周向曝光技术时把周向X光机或线源放在工件的圆心位置上
- B、周向曝光技术在整个圆周方向上射线束均与工件表面垂直，不存在透照厚度差
- C、采用周向曝光技术时，容器或圆筒内半径可以适当降低几何不清晰度的要求
- D、具有速度快、效率高，射线照相黑度均匀的特点
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以下有关放置像质计的说法正确的是（）A、原则上每一张射线底片都应放置像质计B、周向曝光技术中，在至少每隔120º的位置上放置一个像质计C、像质计一般放在射线底片的两端，像质计最细的金属丝应靠近端头处D、以上都对
下列关于［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］说法错误的是（）。A、［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］的效果会更加柔和B、［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］会更不容易产生曝光的效果C、［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］对比会更强烈D、［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］更适合制作动画
单选题下列关于［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］说法错误的是（）。A［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］的效果会更加柔和B［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］会更不容易产生曝光的效果C［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］对比会更强烈D［对数曝光控制（LogarithmicExposureControl）］相比［线性曝光控制（LinearExposureControl）］更适合制作动画
单选题以下有关感光度的说法错误的是（）A感光度也称为感光速度，它表示胶片感光的快慢B不同胶片得到同样的黑度所需的曝光量相同C感光度定义为底片获得一定黑度所需曝光量的倒数D曝光量相同，黑度大，感光度就大。
单选题以下有关周向曝光技术的说法错误的是（）A在进行周向曝光技术时把周向X光机或线源放在工件的圆心位置上B周向曝光技术在整个圆周方向上射线束均与工件表面垂直，不存在透照厚度差C采用周向曝光技术时，容器或圆筒内半径可以适当降低几何不清晰度的要求D具有速度快、效率高，射线照相黑度均匀的特点