试说明光电二极管的结构和工作原理是什么?

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半导体硅常用的受主杂质是()。A、锡B、硫C、硼D、磷

在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA

在酸性浆料中,最常使用的氧化剂为()。A、硝酸B、硝酸铜C、硫酸D、磺酸

thermal conductivity gauge的意思是()。A、离子计B、热传导真空计C、放电型真空计D、麦克劳式真空计

早期,研究离子注入技术是用()来进行的。A、重离子加速器B、热扩散炉C、质子分析仪D、轻离子分析器

请列举其它的焊接方法。

我们可以从测量去离子水的酸度来判别阴阳树脂谁先失效,阴树脂先失效,水呈()性。A、酸B、碱C、弱酸D、弱碱

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涂胶之前,要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行,下列操作正确的是()。A、进行去水烘烤以保证晶片干燥B、在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好C、刚刚处理好的晶片应立即涂胶D、贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥E、也可以直接使用贮存的晶片