正态分布有哪些参数？为什么说正态分布是很重要的连续性分布？
统计学中最基本、最重要的分布，也是心理学研究中最常用的数据分布是（）。
描述中子源特性的三个重要参数是：（）、（）、和中子发射的角分布。
利用分布曲线研究一批工件的加工精度时，最主要的二个参数是（）和（）。
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A、能量B、剂量
对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。A、入射离子的能量B、入射离子的质量C、入射离子的原子序数D、靶原子的质量、原子序数、原子密度E、注入离子的总剂量
第二类回火脆性产生的原因是（）的缘故。A、晶粒边界杂质浓度增高B、晶粒边界杂质浓度降低C、晶粒内部杂质浓度增高D、晶粒内部杂质浓度降低
（）是液压传动中最重要的参数。A、压力和流量B、压力和负载C、压力和速度D、速度和流量
批重对炉料分布的影响是所有装料制度参数中最重要的。
（）和（）是液压传动中最重要的参数。A、压力和流量B、压力和负载C、压力和速度D、流量和速度
结晶溶液中，杂质对结晶的影响有（）。A、杂质浓度低，对结晶无明显影响B、杂质浓度高，影响结晶纯度C、杂质浓度高，改变晶习D、杂质浓度高，影响结晶的理化性质和生物活性
液压传动中最重要的参数是（）和（），前者代表（），后者代表（），而二者的乘积则是（）。
液压传动中最重要的参数是（）和（），它们的乘积是（）。
扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的，即杂质浓度大，扩散电流大；杂质浓度小，扩散电流小。
水泵参数中最重要的两个是（）。A、流量和扬程B、流量和功率C、扬程和功率D、流量和效率
半导体三极管工作过程中（）。A、发射区杂质浓度大于基区杂质浓度；B、发射区杂质浓度小于基区杂质浓度；C、发射区杂质浓度等于基区杂质浓度；D、发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。
判断题离子注入是集成电路制造中最为重要的工序。A对B错
单选题结晶溶液中，杂质对结晶的影响有（）。A杂质浓度低，对结晶无明显影响B杂质浓度高，影响结晶纯度C杂质浓度高，改变晶习D杂质浓度高，影响结晶的理化性质和生物活性
问答题扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么？与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是什么？
问答题离子注入工艺需要控制的工艺参数及设备参数有哪些？
填空题（）是半导体单晶重要电学参数之一，它反映了补偿后的杂质浓度，与半导体中的载流子浓度有直接关系。
填空题统计学中最基本、最重要的分布，也是心理学研究中最常用的数据分布是（）。