合成系统升温还原时,提温和提H2有能同时进行。() 此题为判断题(对,错)。
合成系统升温还原时,提温和提H2有能同时进行。()
此题为判断题(对,错)。
相关考题:
升温还原控制原则()。 A.三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期B.三稳:提温稳、补氢稳、出水稳。C.三不准:提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水D.三控制:控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度
合成催化剂升温还原时,严格控制升温速率()出水量(),平面(同端面)温差()。 A.严格控制升温速率小于等于25℃/hB.出水量20—40公斤/小时C.平面(同端面)温差小于5℃D.提H2提温同时进行
精馏操作提降温度、进料量的原则是( )。A.先提量后升温、先降温后降量B.先提量后升温、先降量后降温C.先升温后提量、先降温后提量D.先升温后提量、先降量后降温