填空题第二次世界大战以后,电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。

填空题
第二次世界大战以后,电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。

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相关考题:

目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()A、气相法B、固相法C、液相法D、化学气相沉积法

材料是单晶锗和单晶硅的半导体称为本征半导体。()

在金属间化合物的制备方法中,单晶化合物的制备方法与定向凝固法有何异同?

单晶刚玉是目前超精密磨削中最好的刚玉磨料,对各种材料都适用。

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指()A、物理气相沉积法;B、化学气相沉积法;C、气相法;D、固相法

简述单晶材料制备中定向凝固法原理。

单晶材料制备中区域熔化法的原理。

如何选择单晶体的制备方法?

按照半导体理论对不含杂质而且结构非常完整的半导体单晶称为()。

在光纤的制备方法中,VAD法是指()。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法

工业中单晶硅的制备方法主要有()和区熔法(FZ法)

单晶硅锭的制备方法很多,目前国内外在生产中主要采用溶体直拉法和辉光放电法。

下面哪种不是单晶硅的制备方法()。A、硅带法B、区熔法C、直拉单晶法D、磁拉法

第二次世界大战以后,电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。

电子工业用直径≥30cm单晶硅棒

下列哪种纤维的制备方法是采用气相沉积法()A、碳化硅纤维B、氧化铝陶瓷C、硼纤维

单选题制备石英光纤有多种方法,其中等离子体化学气相沉积法的缩写是()APCVDBCVDCMCVDDAVD

单选题半导体工业所用的硅单晶()是用CZ法生长的。A70%B80%C90%D60%

判断题为了制成单晶及更纯的硅,通常可以采用丘克拉斯基凝固工艺(CZ法)。A对B错

问答题简述熔体制备单晶的方法,坩埚法和直拉法的过程细节。

问答题简述影响化学气相沉积制备材料质量的几个主要因素。

问答题简述单晶材料制备中定向凝固法原理。

问答题在金属间化合物的制备方法中,单晶化合物的制备方法与定向凝固法有何异同?

问答题简述单晶材料制备中高温溶液法基本原理。

填空题较为成熟的()的制备方法主要有电弧法、热蒸发法、燃烧法和化学气相沉积法等。

问答题试述工业上卤原子置换羟基的方法。在工业上有三种方法,即气-液相催化法,气-液相非催化法和气-固相接触催化法。

问答题简述单晶材料制备中提拉法的原理。