多选题布图设计的存在方式可以是 ( )A以掩模图形的方式存在掩模板上B以图形的方式存在于芯片表面C以图形的方式存在于芯片表面以下的不同深度D以编码方式存在于磁盘、磁带等介质中E以图纸的方式存在
多选题
布图设计的存在方式可以是 ( )
A
以掩模图形的方式存在掩模板上
B
以图形的方式存在于芯片表面
C
以图形的方式存在于芯片表面以下的不同深度
D
以编码方式存在于磁盘、磁带等介质中
E
以图纸的方式存在
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解析：
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相关考题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A.布图设计专有权的取得方式是登记B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C.对布图设计专有权可以适用强制许可D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）A.布图设计自创完成之日起15年内。B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。D.自布图设计登记申请日起算10年内。
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B、外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C、外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D、中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A为个人目的而复制受保护的布图设计B为研究目的而复制受保护的布图设计C在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
不定项题依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A布图设计专有权的取得方式是登记B布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C对布图设计专有权可以适用强制许可D对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）A集成电路布图设计登记申请表B集成电路布图设计的说明书和权利要求书C集成电路布图设计的复制件或者图样D集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
单选题关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A该布图设计必须由个人对立创造B该布图设计必须投入商业实施C受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D受保护的布图设计必须办理登记手续