111～113题共用备选答案）A．充填物过高，形成早接触B．未恢复接触点或形成颈部悬突C．备洞过程中产热过多D．继发龋伴牙髓炎E．充填物压得不紧111．龋齿充填后远期出现激发疼和自发疼，多半是由于112.龋齿充填后近期出现激发疼和自发疼，多数是由于113.龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛无激发痛，叩痛（一），多数是由于
龋齿充填后近期出现继发痛和自发痛，多数是由于A.充填物有早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填后远期出现继发痛和自发痛，多数是由于A.充填物有早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛，无继发痛，叩痛（-），多数是由于A.充填物有早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填后近期出现激发痛和自发痛，多数是由于A.充填物过高，形成早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多半是由于A.充填物过高，形成早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填治疗后有咬合痛,无自发痛无激发痛,叩痛(一),多数是由于A.充填物过高,形成早接触 SXB 龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛无激发痛，叩痛（一），多数是由于A.充填物过高，形成早接触B.未恢复接触点或形成颈部悬突C.备洞过程中产热过多D.继发龋伴牙髓炎E.充填物压得不紧
龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多数是由于（）A、充填物有早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
龋病充填治疗后远期出现激发痛和自发痛多由于（）。A、充填物有早接触B、充填物不密合C、继发龋伴发牙髓炎D、充填物形成悬突E、未恢复接触点
龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛，无继发痛，叩痛（-），多数是由于（）A、充填物有早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
龋齿充填后近期出现继发痛和自发痛，多数是由于（）A、充填物有早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
龋齿充填后远期出现继发痛和自发痛，多数是由于（）A、充填物有早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多半是由于（）A、充填物过高，形成早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
龋齿充填后近期出现激发痛和自发痛，多数是由于（）A、充填物过高，形成早接触B、未恢复接触点或形成颈部悬突C、备洞过程中产热过多D、继发龋伴牙髓炎E、充填物压得不紧
单选题龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填后出现持续性自发性钝痛，可以定位，无激发痛，咀嚼可加重疼痛多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填后出现持续性自发性钝痛，可以定位，无继发痛，咀嚼可加重疼痛多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多半是由于（）A充填物过高，形成早接触B未恢复接触点或形成颈部悬突C备洞过程中产热过多D继发龋伴牙髓炎E充填物压得不紧
单选题龋齿充填后近期出现激发痛和自发痛，多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填后近期出现继发痛和自发痛，多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填后近期出现激发痛和自发痛，多数是由于（）A充填物过高，形成早接触B未恢复接触点或形成颈部悬突C备洞过程中产热过多D继发龋伴牙髓炎E充填物压得不紧
单选题龋齿充填后远期出现激发痛和自发痛，多数是由于（）A充填物有早接触B未恢复接触点或形成颈部悬突C备洞过程中产热过多D继发龋伴牙髓炎E充填物压得不紧
单选题龋齿充填后远期出现继发痛和自发痛，多数是由于（）A充填物有早接触B未恢复接触点或形成颈部悬突C备洞过程中产热过多D继发龋伴牙髓炎E充填物压得不紧
单选题龋齿充填后近期出现继发痛和自发痛，多数是由于（）A充填物有早接触B未恢复接触点或形成颈部悬突C备洞过程中产热过多D继发龋伴牙髓炎E充填物压得不紧
单选题龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛，无继发痛，叩痛（－），多数是由于（ ）。ABCDE
单选题龋齿充填治疗后有咬合痛，无自发痛，无激发痛，叩痛（-），多数是由于（ ）。ABCDE