单选题下列不属于涂胶不良的是()A断胶B胶量不足C涂胶未到位D胶体硬化
单选题
下列不属于涂胶不良的是()
A
断胶
B
胶量不足
C
涂胶未到位
D
胶体硬化
参考解析
解析:
暂无解析
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下列胶接工艺流程中,正确的是()。 A、表面处理→配胶→涂胶→合拢→凉置→固化→检查B、表面处理→配胶→涂胶→凉置→合拢→固化→检查C、配胶→涂胶→表面处理→合拢→凉置→固化→检查D、配胶→涂胶→表面处理→凉置→合拢→固化→检查
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
涂胶之前,要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行,下列操作正确的是()。A、进行去水烘烤以保证晶片干燥B、在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好C、刚刚处理好的晶片应立即涂胶D、贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥E、也可以直接使用贮存的晶片
多选题涂胶不良的表现有()A断胶B胶量不足C涂胶未到位D胶体硬化