X光用玻璃底片(未曝光)A.3701.1000B.3702.3220C.7004.9000D.7003.1900

X光用玻璃底片(未曝光)

A.3701.1000
B.3702.3220
C.7004.9000
D.7003.1900

参考解析

解析:

相关考题:

根据底片密度的情况把曝光状况归纳为:()。A厚、薄、正常B快、慢、正常C软、硬、正常D曝光正常、曝光不足、曝光过度、曝光过度或不足同时出现在一张底片上

底片反差是指()。A、底片上相邻区域的曝光量差B、底片上相邻区域的黑度差C、胶片特性曲线的r值D、曝光曲线上的tgQ值

影响底片对比度的主要因素是()A、射线硬度B、X光管焦点C、曝光量D、a和c

评定底片时发现有白色指纹状显示,可能原因是()A、手沾到定影液后接触到未冲洗的底片B、手沾到显影液后接触到未冲洗的底片C、手沾到定影液后接触到未冲洗好的底片D、手沾到显影液后接触到未曝光的底片

如果显影时间过长,有些未曝光的AgBr也会被还原,从而增大了底片灰雾度

曝光曲线在制作时往往把哪一些参数固定()A、X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、射线能量B、X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、曝光量C、X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、透照厚度D、X射线机、照相的焦距、底片黑度、所使用的胶片和增感屏、暗室处理的工艺条件

摄影曝光与显影是相辅相成的,曝光决定着底片的密度,显影决定着底片的反差。

曝光过度底片的主要表现:底片的()较厚,影像没有层次。

晒版后()无图纹潜像。A、过度曝晒B、曝光不足C、未晒版前曝光D、未放置底片

晒版前发现底片有瑕疵应()A、重新制作或修正底片B、制版后修正C、减少曝光时间D、加强曝光时间

显影操作时,不断搅拌底片的目的是()A、使未曝光的溴化银离子脱落B、驱除附在底片表面的气孔C、使曝过光的溴化银加速溶解D、使底片表面的显影液更新

有一老旧之X光机,其曝光表已不准确,今拟利用底片特性曲线图及阶梯块制一新曝光表,照相条件为SFD=80cm,铅增感屏,使用Type II型底片,洗相温度均25℃,所要求的底片黑度为2.5。现使用160KV,5mA,2min,按上述条件曝光、底片冲洗,测量阶梯块两种不同厚度底片上的黑度如下:阶梯块厚度1/4英寸--底片黑度3.0;阶梯块厚度1/2英寸--底片黑度1.6。各阶梯块厚度在底片上曝露量与新曝光表要求之黑度时之曝露量比率为多少?并求出其曝露量。

有一老旧之X光机,其曝光表已不准确,今拟利用底片特性曲线图及阶梯块制一新曝光表,照相条件为SFD=80cm,铅增感屏,使用Type II型底片,洗相温度均25℃,所要求的底片黑度为2.5。现使用160KV,5mA,2min,按上述条件曝光、底片冲洗,测量阶梯块两种不同厚度底片上的黑度如下:阶梯块厚度1/4英寸--底片黑度3.0;阶梯块厚度1/2英寸--底片黑度1.6。新曝光表之黑度要求为2.5,则该黑度下之对数相对曝露量为多少?

如果显影时间过长,有些未曝光的AgBr也会被还原,从而增大了底片灰雾。

用30x1011Bq的192Ir透照某工件,焦距1200mm,曝光10min,可得到底片黑度2.0,经过1个半衰期后用同样曝光时间透照相同工件,要保持底片黑度不变,则此时焦距应为多少?

有一老旧之X光机,其曝光表已不准确,今拟利用底片特性曲线图及阶梯块制一新曝光表,照相条件为SFD=80cm,铅增感屏,使用Type II型底片,洗相温度均25℃,所要求的底片黑度为2.5。现使用160KV,5mA,2min,按上述条件曝光、底片冲洗,测量阶梯块两种不同厚度底片上的黑度如下:阶梯块厚度1/4英寸--底片黑度3.0;阶梯块厚度1/2英寸--底片黑度1.6。各该黑度下之对数相对曝露量为多少?

X射线照相灵敏度取决于()。A、底片上缺陷影响的不清晰度B、底片黑度C、曝光时间D、以上都对

胶片特性曲线的横坐标表示()。A、底片黑度B、曝光量C、曝光量的对数D、底片黑度的对数

曝光过度底片的主要表现:底片的密度较薄,影像没有层次。

石英玻璃基质的未曝光感光硬片

单选题评定底片时发现有白色指纹状显示,可能原因是()A手沾到定影液后接触到未冲洗的底片B手沾到显影液后接触到未冲洗的底片C手沾到定影液后接触到未冲洗好的底片D手沾到显影液后接触到未曝光的底片

单选题根据底片密度的情况把曝光状况归纳为:()。A厚、薄、正常B快、慢、正常C软、硬、正常D曝光正常、曝光不足、曝光过度、曝光过度或不足同时出现在一张底片上

判断题如果显影时间过长,有些未曝光的AgBr也会被还原,从而增大了底片灰雾。A对B错

单选题评定底片时发现有黑色指纹状显示,可能原因是()A手沾到定影液后接触未冲洗的底片B手沾到显影液后接触未冲洗的底片C手沾到定影液后接触未曝光的底片D以上都可能

多选题显影操作时,不断搅拌底片的目的是()A使未曝光的溴化银离子脱落B驱除附在底片表面的气孔C使曝过光的溴化银加速溶解D使底片表面的显影液更新

判断题如果显影时间过长,有些未曝光的AgBr也会被还原,从而增大了底片灰雾度A对B错

判断题摄影曝光与显影是相辅相成的,曝光决定着底片的密度,显影决定着底片的反差。A对B错