沉淀被沾污的原因有()A、表面吸附B、混晶C、包藏D、后沉淀

沉淀被沾污的原因有()

  • A、表面吸附
  • B、混晶
  • C、包藏
  • D、后沉淀

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试分析过热器沾污及高温腐蚀原因及减轻(或防止)过热器沾污及高温腐蚀的主要方法?

沉淀玷污的原因有那些?

重量分析中要求沉淀物要纯净,()。A、沉淀中不能含有水分子B、沉淀式与称量式完全一致C、沉淀为晶型沉淀D、要避免杂质的沾污

清洁度是指聚乙烯颗粒被氧化和着色所沾污的程度.

试样加工后,分析表面应平坦、光滑,表面不能被沾污、有孔、()及()。

墨水在储存过程中易出现现象是()。A、沉淀B、渗漏C、串味D、沾污

因为存在着后沉淀现象,所以沉淀物的沾污程度()A、随时间的延长而减少B、在较高的温度下,沾污较少C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D、在沉淀前,调节溶液的pH可以控制沾污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生

简述碳化取出液沉淀量多,沉淀时间长的原因有哪些?

被油脂沾污的玻璃仪器可用()清洗。

滴定管被沾污后,用去污粉刷洗或用洗液洗涤。()

在放射性同位素示踪注水剖面测井中,示踪剂与油管内外壁、配水器等易形成沾污。按形成的机理,沾污可主要分为()两大类。A、油管沾污和接箍沾污B、偏心沾污和配水器沾污C、吸附沾污和沉淀沾污D、封隔器沾污和套管沾污

油套管接箍、配水器、套管内壁或油管外壁等处的沾污按沾污机理属于()沾污。A、吸附B、沉淀C、筒状D、环状

设备劣化的原因有()A、润滑不良B、灰尘沾污C、螺栓松驰D、受热E、潮湿F、维修不善

重量分析中,沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污,沉淀表面最优先吸附的离子是()A、构晶离子B、高价离子C、极化程度大的离子D、浓度大的离子

电位滴定法测定水中氯化物时,由于是沉淀反应,因此在电位滴定时搅拌速度应选择快速,防止电极表面被沉淀沾污。

所谓“渍损”,即货物被其它液体所沾污浸渍而造成的残损。()

关于全身沾污仪的使用,下面说法不正确的是()。A、测量全身沾污仪时,严禁手上持有任何物品B、测量全身沾污仪时,应按要求和提示进行测量C、被测量出有污染时,自行到去污间进行去污D、全身沾污仪是用来测量全身体表污染的设备

设备劣化主要原因有“保温不良、螺栓松驰、()”。A、灰尘沾污B、受热C、潮湿D、润滑不良

单选题下列产于重量分析对沉淀式的要求中说法不正确的是()A沉淀的溶解度必须很小(一般要求小于10-4mol/L)以保证被测组分沉淀完全B沉淀式要便于过滤和洗涤C沉淀力求纯净,尽量避免其他杂质的沾污,以保证获得准确的分析结果。D沉淀式与称量式应保持一致。

单选题关于全身沾污仪的使用,下面说法不正确的是()。A测量全身沾污仪时,严禁手上持有任何物品B测量全身沾污仪时,应按要求和提示进行测量C被测量出有污染时,自行到去污间进行去污D全身沾污仪是用来测量全身体表污染的设备

单选题墨水在储存过程中易出现现象是()。A沉淀B渗漏C串味D沾污

判断题电位滴定法测定水中氯化物时,由于是沉淀反应,因此在电位滴定时搅拌速度应选择快速,防止电极表面被沉淀沾污。A对B错

多选题沉淀被沾污的原因有()A表面吸附B混晶C包藏D后沉淀

单选题重量分析中,沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污,沉淀表面最优先吸附的离子是()A构晶离子B高价离子C极化程度大的离子D浓度大的离子

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多选题设备劣化主要原因有“保温不良、螺栓松驰、()”。A灰尘沾污B受热C潮湿D润滑不良

单选题因为存在着后沉淀现象,所以沉淀物的沾污程度()A随时间的延长而减少B在较高的温度下,沾污较少C只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D在沉淀前,调节溶液的pH可以控制沾污的发生E改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生