氨空比的正确计算是()。A、V空/(V一次空+V气氨)B、V气氨/(V一次空+V气氨)C、V气氨/V空D、V空/V气氨

氨空比的正确计算是()。

  • A、V/(V一次空+V气氨
  • B、V气氨/(V一次空+V气氨
  • C、V气氨/V
  • D、V/V气氨

相关考题:

工件在不同设备中加热速度不同,盐浴炉、火焰炉和空气电阻炉三者的加热速度(分别用V盐、V火、V空表示)()。 A、V盐>V火>V空B、V盐>V空>V火C、V火>V盐>V空

进程P1 、P2、P3、P4、P5 和 P6 的前趋图如下所示:若用 PV 操作控制这6个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为( ); 空③和空④处应分别为( );空⑤和空⑥处应分别为( )。A. V (S1) V (S2) 和 P (S2) B. P (S1) P (S2) 和 V (S2) C. V (S1) V (S2) 和 P (S1) D. P (S1) P (S2) 和 V (S1) A. V (S3) 和 V (S5) V (S6) B. P (S3) 和 V (S5) V (S6) C. V (S3) 和 P (S5) P (S6) D. P (S3) 和 P (S5) P (S6) A. P (S6) 和 P (S7) V (S8) B. V (S6) 和 V (S7) V (S8) C. P (S6) 和 P (S7) P (S8) D. V (S7) 和 P (S7) P (S8)

进程Pl、P2、P3、P4、P5和P6的前趋图如下图所示:若用PV操作控制这6个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(23);空③和空④处应分别为(24);空⑤和空⑥处应分别为(25)。A.V (S3)和V (S5) V (S6)B.P (S3)和V (S5) V (S6)C.V (S3)和P (S5) P (S6)D.P (S3)和P (S5) P (S6)(22)

图G的邻接矩阵如下图所示(顶点依次表示为v0、v1、v2、v3、v4、v5),G是( )。对G进行广度优先遍历(从v0开始),可能的遍历序列为(请作答此空)。A.v0、v1、v2、v3、v4、v5B.v0、v2、v4、 v5、v1、v3C.v0、v1、v3、v5、v2、v4D.v0、v2、v4、v3、v5、v1

进程P1、P2、P3、P4和P5的前趋图如下所示:若用PV操作控制这5个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(请作答此空);空③和空④处应分别为( );空⑤和空⑥处应分别为( )。A.V(S1)和P(S2)B.P(S1)和V(S2)C.V(S1)和V(S2)D.V(S2)和P(S1)

进程P1、P2、P3、P4和P5的前趋图如下所示:若用PV操作控制这5个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为( );空③和空④处应分别为(请作答此空);空⑤和空⑥处应分别为( )。A.V(S3)和V(S5)B.P(S3)和V(S5)C.V(S3)和P(S5)D.P(S3)和P(S5)

进程P1、P2、P3、P4和P5的前趋图如下所示:若用PV操作控制这5个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为( );空③和空④处应分别为( );空⑤和空⑥处应分别为(请作答此空)。A.P(S6)和P(S5)V(S6)B.V(S5)和V(S5)V(S6)C.V(S6)和P(S5)P(S6)D.P(S6)和P(S5)P(S6)

进程Pl、P2、P3、P4、P5和P6的前趋图如下图所示:若用PV操作控制这5个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(请作答此空 );空③和空④处应分别为( );空⑤和空⑥处应分别为( )。若用PV操作控制这6个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(23);空③和空④处应分别为(24);空⑤和空⑥处应分别为(25)。A.V (S1) V (S2)和P (S2)B.P (S1) P (S2)和V (S2)C.V (S1) V (S2)和P (S1)D.P (S1) P (S2)和V (S1)

进程 P1.P2.P3.P4.P5 和 P6 的前趋图如下所示:若用 PV 操作控制这 6 个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(请作答此空);空③和空④处应分别为( );空⑤和空⑥处应分别为(请作答此空)。A.V(S3)和 V(S5)B.P(S3)和 V(S5)C.V(S3)和 P(S5)D.P(S3)和 P(S5)

进程Pl、P2、P3、P4、P5和P6的前趋图如下图所示:若用PV操作控制这6个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为( );空③和空④处应分别为(请作答此空);空⑤和空⑥处应分别为( )。A.V (S3)和V (S5) V (S6)B.P (S3)和V (S5) V (S6)C.V (S3)和P (S5) P (S6)D.P (S3)和P (S5) P (S6)

进程 P1.P2.P3.P4.P5 和 P6 的前趋图如下所示:若用 PV 操作控制这 6 个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为();空③和空④处应分别为(请作答此空);空⑤和空⑥处应分别为(请作答此空)。A.V(S1)和 P(S2)B.P(S1)和 V(S2)C.V(S1)和 V(S2)D.V(S2)和 P(S1)

进程 P1.P2.P3.P4.P5 和 P6 的前趋图如下所示:若用 PV 操作控制这 6 个进程的同步与互斥的程序如下,那么程序中的空①和空②处应分别为(请作答此空);空③和空④处应分别为(请作答此空);空⑤和空⑥处应分别为( )。A.P(S6)和 P(S5)V(S6)B.V(S5)和 V(S5)V(S6)C.V(S6)和 P(S5)P(S6)D.P(S6)和 P(S5)P(S6)

V105引氨过程及注意事项?

氨的爆炸下限为()。A、10%(V)B、15%(V)C、20%(V)D、25%

简述V-113/1向V-114转氨步骤。

V-101、V-201、V-103、V-107分别用()气封。

K5B计算机联锁系统的接口架采用36芯扦头扦座与继电器电路连接,其中插头插座的33-36芯为()。A、输入空输出24V-B、输入24V-输出空C、输入输出均为24V-D、输入、输出均为空作备用

氨的爆炸下限为()。A、10%(V)B、15%(V)C、20%(V)

给氨精制塔补的液氨可以从()来。A、V-113/1B、V-113/2C、V-114D、都可以

简述V-113/1向V-113/2转氨步骤。

在干气法制乙苯的工艺中要求来料干气中的乙烯含量()A、≮15%(V)B、≮20%(V)C、≮10%(V)D、≮5%(V)

氨氧化反应中,氨空混合气的浓度应控制氨的浓度在()。A、27%B、15.5%C、9%~11%D、5%

氧化炉点火前,氧化炉铂网温度超低连锁,气氨温度超低连锁,氨空比超低连锁应该()。A、气氨温度超低自动,其余旁路B、全部自动C、氧化炉铂网温度超低连锁旁路,其余自动D、氨空比超低连锁帝路,其余自动

稀硝酸装置开车时,()连锁需要旁路。A、氧化炉铂网温度超低B、氨空比超低C、氨空比超高D、气氨压力超低

δ 是乙炔气瓶填料孔隙率,V是乙炔气瓶实际容积,B是乙炔在丙酮中的重量溶解度,乙炔气瓶内剩余乙炔量Gs=()A、0.38δ·V/BB、0.24δ·V·BC、0.12δ·V·BD、0.38δ·V·B

单选题K5B计算机联锁系统的接口架采用36芯扦头扦座与继电器电路连接,其中插头插座的33-36芯为()。A输入空输出24V-B输入24V-输出空C输入输出均为24V-D输入、输出均为空作备用

单选题散粒材料的体积V0′=()。AV+V孔BV+V孔+V空CV+V空DV+V闭