合成系统的降温速率为小于等于250℃/h。
合成系统的降温速率为小于等于250℃/h。
相关考题：
合成催化剂升温还原时,严格控制升温速率()出水量(),平面(同端面)温差()。 A.严格控制升温速率小于等于25℃/hB.出水量20—40公斤/小时C.平面(同端面)温差小于5℃D.提H2提温同时进行
TCH/H4.8代表（）A、9.6kbit/s全速率数据信道B、4.8kbit/s全速率数据信道C、4.8kbit/s半速率数据信道D、小于等于2.4kbit/s半速率数据信道E、小于等于2.4kbit/s全速率数据信道
从物质燃烧的过程来看，物质能够发生自燃的条件是（）。A、物质氧化的放热速率等于散热速率B、物质氧化的放热速率小于散热速率C、物质氧化的放热速率小于等于散热速率D、物质氧化的放热速率大于散热速率
单选题TCH/H4.8代表（）A9.6kbit/s全速率数据信道B4.8kbit/s全速率数据信道C4.8kbit/s半速率数据信道D小于等于2.4kbit/s半速率数据信道E小于等于2.4kbit/s全速率数据信道
单选题从物质燃烧的过程来看，物质能够发生自燃的条件是（）。A物质氧化的放热速率大于散热速率B物质氧化的放热速率小于散热速率C物质氧化的放热速率等于散热速率D物质氧化的放热速率小于等于散热速率
单选题在营养生成层，白天光合作用合成有机物速率（）有机物分解速率.A大于B等于C小于D可能大于，也可能小于