应用微机控制系统的电位滴定仪进行滴定时,正确的调整是()。A、调整滴定剂坐标比例改变纵坐标B、调整滴定剂坐标比例改变横坐标C、调整电位界值改变横坐标D、调整电位界值改变纵坐标
应用微机控制系统的电位滴定仪进行滴定时,正确的调整是()。
- A、调整滴定剂坐标比例改变纵坐标
- B、调整滴定剂坐标比例改变横坐标
- C、调整电位界值改变横坐标
- D、调整电位界值改变纵坐标
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挣值法评价曲线,坐标阐述正确的是() A.横坐标表示时间,纵坐标则表示费用。B.横坐标表示费用,纵坐标则表示时间。C.横坐标表示进度,纵坐标则表示费用。D.横坐标表示时间,纵坐标则表示进度。
火箭免疫电泳后绘制标准曲线是以A、峰高为纵坐标,抗原浓度为横坐标B、峰高为纵坐标,抗原浓度对数为横坐标C、峰高为横坐标,抗原浓度为纵坐标D、峰高为横坐标,抗原浓度对数为纵坐标E、峰高对数为纵坐标,抗原浓度为横坐标
ROC曲线的定义是A、根据一系列分界值,以真阴性率为纵坐标,假阴性率为横坐标绘制的曲线B、根据一系列分界值,以灵敏度为纵坐标,特异度为横坐标绘制的曲线C、根据一系列分界值,以真阳性率为纵坐标,假阳性率为横坐标绘制的曲线D、根据一系列分界值,以真阳性率为纵坐标,真阴性率为横坐标绘制的曲线E、根据一系列分界值,以真阴性率为纵坐标,假阳性率为横坐标绘制的曲线
火箭免疫电泳后绘制标准曲线是以A.峰高为纵坐标,抗原浓度为横坐标B.峰高为纵坐标,抗原浓度的对数为横坐标C.峰高为横坐标,抗原浓度为纵坐标D.峰高为横坐标,抗原浓度的对数为纵坐标E.峰高的对数为纵坐标,抗原浓度为横坐标
直方图应用程序包括( )。A.确定数据的极差R,等于最大值减去最小值B.确定所画直方图的组数K及每组宽度C.统计频数,列频数分布表D.画横坐标和纵坐标,横坐标按频数比例画,纵坐标按数据值比例画E.按纵坐标画出每个矩形的高度,代表落在此矩形中的发生次数
ROC曲线的定义是A.根据一系列分界值,以真阳性率为纵坐标,真阴性率为横坐标绘制的曲线B.根据一系列分界值,以灵敏度为纵坐标,特异度为横坐标绘制的曲线C.根据一系列分界值,以真阴性率为纵坐标,假阴性率为横坐标绘制的曲线D.根据一系列分界值,以真阳性率为纵坐标,假阳性率为横坐标绘制的曲线E.根据一系列分界值,以真阴性率为纵坐标,假阳性率为横坐标绘制的曲线
在常规使用的听力图中,横坐标和纵坐标分别表示()。A、横坐标为音调,纵坐标为响度;B、横坐标为响度,纵坐标为音调;C、横坐标为频率,纵坐标为声强;D、横坐标为声强,纵坐标为频率;E、横坐标为频率,纵坐标为音调。
坐标图示法是以()的变化。A、横坐标表示产量,纵坐标表示工时消耗B、横坐标表示影响因素值,纵坐标标志产量C、横坐标表示工时消耗,纵坐标表示产量D、横坐标表示影响因素值,纵坐标标志工时消耗E、横坐标标示产量,纵坐标表示影响因素值
比较类推法常用的方法有比例数示法和坐标图示法两种。其中坐标图示法是以()的变化。A、横坐标表示产量,纵坐标表示工时消耗B、横坐标表示影响因素值,纵坐标标志产量C、横坐标表示工时消耗,纵坐标表示产量D、横坐标表示影响因素值,纵坐标标志工时消耗E、横坐标标示产量,纵坐标表示影响因素值
一般来说,DNA测序图中,其横坐标和纵坐标的意义是()。A、横坐标代表荧光波长种类,纵坐标代表时间B、横坐标代表荧光波长种类和强度,纵坐标代表时间C、横坐标代表时间,纵坐标代表荧光波长种类D、横坐标代表时间,纵坐标代表荧光波长种类和强度E、横坐标代表荧光波长种类,纵坐标代表荧光波长强度
单选题在常规使用的听力图中,横坐标和纵坐标分别表示()。A横坐标为音调,纵坐标为响度;B横坐标为响度,纵坐标为音调;C横坐标为频率,纵坐标为声强;D横坐标为声强,纵坐标为频率;E横坐标为频率,纵坐标为音调。
单选题在改变给定值的控制系统中,当系统给定值阶跃改变时,系统动态过程超调量偏大,应调整()。A调整控制对象惯性使T↓B调整控制对象放大系数使K↑C调整调节器比例带使PB↓D调整调节器比例带使PB↑
多选题比较类推法常用的方法有比例数示法和坐标图示法两种。其中坐标图示法是以()的变化。A横坐标表示产量,纵坐标表示工时消耗B横坐标表示影响因素值,纵坐标标志产量C横坐标表示工时消耗,纵坐标表示产量D横坐标表示影响因素值,纵坐标标志工时消耗E横坐标标示产量,纵坐标表示影响因素值