填空题TISAB除了掩蔽干扰离子外，还可以（）、（）

填空题
TISAB除了掩蔽干扰离子外，还可以（）、（）

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相关考题：

在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。 A、控制酸度，降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度，降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
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为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽分为()、()、()。
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利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。
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用标准曲线法测F-，在试样和标准溶液中加入TISAB的作用是（）A、保持离子强度一致B、掩蔽干扰离子C、控制pHD、以上三者都包括
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络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生（）反应、（）反应和氧化还原反应，以消除干扰。
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在分析分离过程中常有干扰物质的存在，利用（）可将干扰离子浓度减小，甚至使干扰离子浓度低至不足以参加反应的量极微，就可以消除该离子的干扰。A、掩蔽剂B、解蔽剂C、隐蔽剂
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直接电位法中常加入TISAB，下列因素与TISAB作用无关的是（）A、固定溶液的离子强度B、恒定溶液的酸度C、掩蔽干扰离子D、消除液接电位
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以下关于在直接测定自来水和其他介质中氟的总浓度时所用的TISAB的作用描述，错误的是（）。A、改变待测离子浓度B、掩蔽干扰离子C、调节溶液的pHD、恒定总离子强度
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在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
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共存离子干扰的消除方法不包括（）。A、分步测定B、控制溶液的酸度C、掩蔽干扰离子D、改变干扰离子的价态
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配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
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氧化还原掩蔽法是利用氧化还原反应，改变干扰离子价态，达到消除干扰的目的。
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在测定硬度时，若有铁离子干扰，应采用（）消除干扰。A、络合掩蔽法B、沉淀掩蔽法C、控制溶液的pH值D、解蔽法
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掩蔽干扰离子的方法有哪些？
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总离子强度调节剂（TISAB）的作用保持较大且稳定的（），使活度系数恒定、维持溶液在适宜的pH范围内，满足离子电极的要求、掩蔽干扰（）。
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测定某一含氟离子的试液中的氟，所使用的TISAB中含有NaCl、HAC-NaAC和柠檬酸钠，其作用是（）A、控制试液的总离子强度B、控制试液的pH值C、掩蔽试液中的某些干扰离子D、减少正、负离子的扩散电位E、消除不对称电位
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TISAB除了掩蔽干扰离子外，还可以（）、（）
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掩蔽剂是指种能干扰离子起作用，而不影响（）的试剂。
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常用的掩蔽干扰离子的方法有哪些？如何选择合适的掩蔽剂？
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单选题在分析分离过程中常有干扰物质的存在，利用（）可将干扰离子浓度减小，甚至使干扰离子浓度低至不足以参加反应的量极微，就可以消除该离子的干扰。A掩蔽剂B解蔽剂C隐蔽剂
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单选题在测定硬度时，若有铁离子干扰，应采用（）消除干扰。A络合掩蔽法B沉淀掩蔽法C控制溶液的pH值D解蔽法
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多选题测定某一含氟离子的试液中的氟，所使用的TISAB中含有NaCl、HAC-NaAC和柠檬酸钠，其作用是（）A控制试液的总离子强度B控制试液的pH值C掩蔽试液中的某些干扰离子D减少正、负离子的扩散电位E消除不对称电位
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单选题用标准曲线法测F-，在试样和标准溶液中加入TISAB的作用是（）A保持离子强度一致B掩蔽干扰离子C控制pHD以上三者都包括
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多选题为消除干扰离子的影响，可采用掩蔽法。掩蔽法分为（）。A络合掩蔽；B沉淀掩蔽；C氧化-还原掩蔽；D滴定掩蔽。
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单选题直接电位法中常加入TISAB，下列因素与TISAB作用无关的是（）A固定溶液的离子强度B恒定溶液的酸度C掩蔽干扰离子D消除液接电位
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填空题双硫腙分光光度法测定汞含量时，在pH8.5~9.0时，加入（）可以掩蔽铜、汞、锌等离子的干扰；加入（）可排除铁离子的干扰。
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问答题掩蔽干扰离子的方法有哪些？
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