1、用比色法估测热氧化后氧化层的厚度，直视或斜视，硅片表面颜色是否相同？为什么？ 2、O2和H2O在氧化层中的扩散和在硅中反应均比较快，而且O2略快于H2O，然而水汽氧化的速率远高于干氧氧化，原因是什么？
1、用比色法估测热氧化后氧化层的厚度，直视或斜视，硅片表面颜色是否相同？为什么？ 2、O2和H2O在氧化层中的扩散和在硅中反应均比较快，而且O2略快于H2O，然而水汽氧化的速率远高于干氧氧化，原因是什么？
参考答案和解析
√
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已知下列四个反应的△rHmθ298,其中液态水的标准生成热是:() A、2H(g)+O(g)=H2O(g) △rHmθ298(1)B、H2(g)+1/2 O2(g)=H2O(1) △rHmθ298(2)C、H2(g)+1/2 O2(g)=H2O(g) △rHmθ298(3)D、H2(g)+O(g)=H2O(1) △rHmθ298(4)
H2O2的分解反应为： H2O2（aq） → H2O（l） + 1/2O2（g），下列表示的瞬时速度中，正确的是（）。A、dc（H2O2）/dtB、-dc（H2O）/dtC、-dc（O2）/（2dt）D、dc（O2）/（2dt）
在298K时，H2（g）+（1／2）O2（g）=H2O（L），△H=-285．8kJ／mol。若温度升高，则有下列中何种变化（）？A、正反应速率增大，逆反应速率减小B、正反应速率增大，逆反应速率增大C、正反应速率减小，逆反应速率增大D、正反应速率减小，逆反应速率减小
已知：φθ（O2/H2O）=1.23V， φθ（H2O2/H2O）=1.78V，φθ（MnO2/Mn2+）=1.23V， 在常量的溶液中，下列哪一种说法是对的？ （）。A、H2O2可以歧化反应B、H2O2可以使H2O氧化C、H2O2可以使Mn2+氧化D、三种说法都是对的
已知：φθ（O2/H2O）=1.23V， φθ（H2O2/H2O）=1.78V，φθ（MnO2/Mn2+）=1.23V， 在常量的溶液中，下列哪一种说法是对的？（）A、H22O2可以歧化反应B、H2O2可以使H2O氧化C、H2O2可以使Mn2+氧化D、三种说法都是对的
对于“H2O→O2”和“O2→H2O”这两个过程的分析不正确的是（）A、前者可表示为光合作用的光反应阶段B、前者产生的O2中氧全部来自H2O中的氧C、后者可表示为有氧呼吸第二阶段D、后者O2中氧全部形成了H2O中的氧
下列因素中，有利于加快金属材料吸氧腐蚀速度的是（）A、在干燥空气中，当p（H2O，g）接近零时等于增加了p（O2）B、粗糙的金属表面，易吸附H2O（g）形成102nm~103nm的水膜C、浸在水中，使水膜更厚，超过1厘米D、浸在油中，O2是非极性的，油也是非极性的，O2在油中比水中溶解度更大。
单选题下列反应中，ΔrHθm与产物的ΔfHmθ相同的是（）。A2H2（g）+O2（g）=2H2O（l）BNO（g）+（1/2）O2（g）=NO2（g）CC（金刚石）=C（石墨）DH2（g）+（1/2）O2（g）=H2O（l）
填空题由于O2在SiO2中的扩散率远（）于Si 在SiO2中的扩散率，所以氧化反应是由O2穿过SiO2层，在（）界面与Si原子反应。相同温度下，湿氧氧化速率（）于干氧氧化速率，是因为在SiO2中，H2O比O2有更（）的扩散率和溶解度。由于N2和Si在Si3N4中的扩散率都很（），所以很难在Si衬底上热生长Si3N4。通常在Si衬底上用（）法沉积Si3N4薄膜。
单选题三元催化转换器主要的作用是（）。A将排气中的NOx氧化成N2、O2B将排气中的CO、HC氧化成H2O和CO2C将排气中NOx还原成N2、O2，将CO、HC氧化成H2O和CO2D将排气中的炭烟滤除
判断题在通气良好的天然水体中，水体中O2/H2O电对是天然水中最主要的氧化还原体系，控制水体的氧化还原电位。A对B错