简述范第姆特方程式中A、B/u、Cu三项代表的物理意义及如何控制这些因素来提高柱效。

简述范第姆特方程式中A、B/u、Cu三项代表的物理意义及如何控制这些因素来提高柱效。

参考解析

相关考题:

关于范第姆特方程式下列哪种说法是正确的()A、载气最佳流速这一点 ,柱塔板高度最大B、载气最佳流速这一点,柱塔板高度最小C、塔板高度最小时,载气流速最小D、塔板高度最小时,载气流速最大

范氏方程H=A+B/u+Cu表明影响柱效的因素有( )。A.层流扩散B.涡流扩散C.分子扩散D.传质阻力E.纵向扩散

范第姆特方程式主要说明()。 A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为G、色谱分离操作条件的确定

范第姆特方程中,与色谱柱填料粒径大小有关的是()A、传质阻力项B、纵向扩散项C、涡流扩散项D、以上三项都相关

范氏方程有三项,A项、B/u项和Cu项,分别称()、()、()。

范第姆特方程式主要说明()。A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为

范第姆特方程式主要说明()A、板高的概念B、色谱分离操作条件的选择C、柱效降低的影响因素D、组分在两相间分配情况

在液相色谱中,范第姆特方程中的涡流扩散项对柱效的影响可以忽略。

根据范第姆特方程式,下列说法正确的是()A、h越大,则柱效能越高,色谱峰越窄,对分离越有利B、固定相颗粒填充越均匀,则柱效能越高C、载气流速越高,则柱效能越高D、载气流速越低,则柱效能越高

根据气相色谱法中范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu,试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素,如填充均匀程度、载气流速、()。

根据范弟姆特方程式,在高流速情况下,影响柱效的因素主要是()A、传质阻力B、涡流扩散C、柱弯曲因子D、纵向扩散

1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时,提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程,其数学表达式为H=A+B/u+Cu,式中各项代表的意义是:A是(),B是(),C是(),u是()

根据范第姆特方程式H=A+B/u+Cu,下列说法正确的是()A、H越大,则柱效越高,色谱峰越窄,对分离有利B、固定相颗粒填充越均匀,则柱效越高C、载气线速越高,柱效越高D、载气线速越低,柱效越高

范第姆特方程式不能说明()A、板高的概念B、色谱峰的扩张C、柱效率降低的影响因素D、色谱分离操作条件的选择

简述范第姆特方程式中A、B/u、Cu三项代表的物理意义及如何控制这些因素来提高柱效。

在液相色谱中,范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计()A、涡流扩散项B、分子扩散项C、流动区域的流动相传质阻力D、停滞区域的流动相传质阻力

根据范第姆特方程,在填充柱色谱法中,固定相的填充均匀程度主要影响()A、气相传质阻力B、液相传质阻力C、涡流扩散D、分子扩散

试述速率理论方程式中A、B/μ、Cμ三项的物理意义。

单选题根据范第姆特方程式,下列说法正确的是()Ah越大,则柱效能越高,色谱峰越窄,对分离越有利B固定相颗粒填充越均匀,则柱效能越高C载气流速越高,则柱效能越高D载气流速越低,则柱效能越高

填空题1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时,提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程,其数学表达式为H=A+B/u+Cu,式中各项代表的意义是:A是(),B是(),C是(),u是()

单选题范第姆特方程式不能说明()A板高的概念B色谱峰的扩张C柱效率降低的影响因素D色谱分离操作条件的选择

问答题试述速率理论方程式中A、B/μ、Cμ三项的物理意义。

填空题根据气相色谱法中范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu,试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素,如填充均匀程度、载气流速、()、()。

单选题根据范第姆特方程式H=A+B/u+Cu,下列说法正确的是()AH越大,则柱效越高,色谱峰越窄,对分离有利B固定相颗粒填充越均匀,则柱效越高C载气线速越高,柱效越高D载气线速越低,柱效越高

单选题范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu中,常数B代表()A涡流扩散相B分子扩散相C分子扩散系数D传质阻力系数

单选题根据范第姆特方程,在填充柱色谱法中,固定相的填充均匀程度主要影响()A气相传质阻力B液相传质阻力C涡流扩散D分子扩散

单选题在液相色谱中,范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计()A涡流扩散项B分子扩散项C流动区域的流动相传质阻力D停滞区域的流动相传质阻力

单选题范第姆特方程中,与色谱柱填料粒径大小有关的是()A传质阻力项B纵向扩散项C涡流扩散项D以上三项都相关