反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。A对B错

反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。

A

B


参考解析

相关考题:

反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等

反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用()进行清洗。A柠檬酸BEDTAC三聚磷酸钠D氨基磺酸

反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用氨基磺酸进行清洗。A对B错

金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。A对B错

当反渗透设备进水铁离子含量较高,膜表面有生成金属氧化物的倾向,可采用添加化学分散剂的方法预防。A对B错

反渗透设备膜表面结碳酸钙水垢时,一般用柠檬酸进行清洗。A对B错

0.2%的HCl用作反渗透清洗时,对()污染物清洗效果较好。A、微生物膜B、硅垢C、碳酸钙D、有机物

反渗透膜的污染有()A、膜表面的结垢B、金属氧化物的污染、污堵C、胶体污染D、微生物的污染

0.1%的NaOH和1%的EDTA用作反渗透清洗时,对()污染物清洗效果较好。A、微生物膜B、硅垢C、碳酸钙D、有机物

反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()A、碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B、氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等C、碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D、金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等

金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。

反渗透设备如果有背压,其后果是()A、膜元件黏结线破裂而导致膜元件报废B、回收率降低C、膜表面沉积物生成速度加快D、浓水排放困难

反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用()进行清洗。A、柠檬酸B、EDTAC、三聚磷酸钠D、氨基磺酸

反渗透设备膜表面结碳酸钙水垢时,一般用柠檬酸进行清洗。

反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用氨基磺酸进行清洗。

反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。

当反渗透设备进水铁离子含量较高,膜表面有生成金属氧化物的倾向,可采用添加化学分散剂的方法预防。

根据土壤胶体表面的结构特点,大致可将土壤胶体表面分为硅氧烷型表面、水合氧化物表面、有机物表面、等3种类型,2:1型粘土矿物的表面属于()类型。

判断题金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。A对B错

判断题反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。A对B错

单选题反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用()进行清洗。A柠檬酸BEDTAC三聚磷酸钠D氨基磺酸

判断题当反渗透设备进水铁离子含量较高,膜表面有生成金属氧化物的倾向,可采用添加化学分散剂的方法预防。A对B错

多选题反渗透装置第一段的污染物主要有以下几种()。A胶体;B水垢;C金属氧化物;D微生物和有机物。

单选题反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()A碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等C碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等

判断题反渗透设备膜表面结金属氧化物时,一般用氨基磺酸进行清洗。A对B错

单选题反渗透设备如果有背压,其后果是()A膜元件黏结线破裂而导致膜元件报废B回收率降低C膜表面沉积物生成速度加快D浓水排放困难

填空题根据土壤胶体表面的结构特点,大致可将土壤胶体表面分为硅氧烷型表面、水合氧化物表面、有机物表面、等3种类型,2:1型粘土矿物的表面属于()类型。