反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。A对B错
反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。
A对
B错
参考解析
略
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反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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单选题反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()A碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等C碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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