离子束刻蚀是利用具有一定能量的（）轰击材
料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A、电子 B、离子 C、原子 D、分子离子束刻蚀是利用具有一定能量的（）轰击材
料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。A、电子B、离子C、原子D、分子

离子束刻蚀是利用具有一定能量的（）轰击材
料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。
A、电子
B、离子
C、原子
D、分子

离子束刻蚀是利用具有一定能量的（）轰击材
料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。

A、电子

B、离子

C、原子

D、分子

参考答案和解析
离子

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以下代码中,不能产生多个空行效果的是:()。 A BR BR BR BRB P P P PC P & P & P & P &D BR & BR & BR & BR
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有如下程序： br#includebrusing namespace std;brint main()br{brint *p;br*p =9;brcoutlt;lt;"The value at p:"lt;lt;*p;brreturn 0;br}br 编译运行程序将出现的情况是 brA ．够编译时出现语法错误，不能生成可执行文件 brB ．运行时一定输出： The value at p: 9brC ．运行时一定输出： The value at p: *9brD ．运行时有可能出错 br
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在卤素为离去基团的SN反应中,Br离去倾向比Cl大的原因是()。 A、Br的电负性比Cl小B、Br的半径比Cl大C、溴离子的亲核性强D、C-Br键能键能比C-Cl键能小
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Br2分子分解为Br原子需要的最低离解能为190KJ。mo1－1,求引起溴分子解离需要吸收的最低能量子的波长与频率。
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用质谱仪测得溴得两种天然同位素的相对原子质量和同位素丰度分别为79Br 789183占50。54%,81Br 80。9163占49。46%,求溴的相对原子质量(原子量)。
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以为例,XML中是如何处理类似于HTML中的单边标记的?A.B.／C.D. 以＜br＞为例，XML中是如何处理类似于HTML中的单边标记的?A．＜bf＞＜/br＞B．＜br＞/C．＜br/＞D．＜br＜＞
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反应离子腐蚀是（）。A、化学刻蚀机理B、物理刻蚀机理C、物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
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溅射法是由（）轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。A、电子B、中性粒子C、带能离子
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下列原子半径大小顺序中正确的是（）A、Be＜Na＜MgB、Be＜Mg＜NaC、B＜C＜ND、I＜Br＜K
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用质谱仪测得溴的两种天然同位素的相对原子质量和同位素丰度分别为79Br78.9183占50.54%，81Br80.9163占49.46%，求溴的相对原子质量（原子量）。
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溴常以碱金属和碱土金属卤化物形式存在于海水中，若某一海水中含Br-为60ppm，如使一吨海水中的Br-完全被氧化为Br2，理论上需通入Cl2（）升（标准状况下）（原子量：Br：79.9Cl：35.5）A、0.84升B、8.4升C、42升D、4.2升
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微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种（）。A、干法刻蚀、湿法刻蚀B、离子束刻蚀、激光刻蚀C、溅射加工、直写加工D、以上都可以
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已知φθCl2/Cl-=1.36VφθBr2/Br-=1.07V。反应Br2+2Cl-=2Br-+Cl2是（）进行。
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在反应Br2+2I-→2Br-+I2中，下列说法正确的是（）。A、Br-获得电子是氧化型B、Br2获得电子是氧化剂C、I-失去电子是氧化剂D、I2失去电子是氧化剂
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分子荧光分析中，含重原子（如Br和I）的分子易发生：（）A、振动弛豫B、内部转换C、体系间窜跃D、荧光发射
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卤素与烷烃发生卤代反应的活性为（）。A、I＞F＞Cl＞BrB、Br＞I＞F＞ClC、Cl＞Br＞I＞FD、F＞Cl＞Br＞I
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Br2分子中，Br的化合价是（）A、-1B、+1C、+5D、0
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下列物质中，ΔfGθm=0的是（）A、Br2（g）B、Br2（l）C、Br2（aq）D、Br–（aq）
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Mohr method通常用于测定下列哪些离子（）A、Cl-，Br-，I-B、Cl-，Br-，CN-C、Cl-，Br-，I-，CN-D、Cl-，Br-，I-，CN-SCN-
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[Co（en）2Br2]Br的名称是（）， 其中心离子是（），配体是（），配位原子是N 和Br，配位数是（）。
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单选题微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种（）。Aa.离子束刻蚀、激光刻蚀Bb.干法刻蚀、湿法刻蚀Cc.溅射加工、直写加工
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单选题溴的乙酸-乙酸钠溶液和碘代甲烷反应的反应式为（）。ACH3I+Br→CH3Br+IBCH3I+Br2→CHBr+ICC2H5I+Br2→C2H5Br+IBrDCH3I+Br2→CH3Br+IBr
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单选题分子荧光分析中，含重原子（如Br和I）的分子易发生：（）A振动弛豫B内部转换C体系间窜跃D荧光发射
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单选题电子刻蚀加工主要是通过热效应对工件进行加工，而离子刻蚀加工主要是通过（）效应对工件进行加工。A撞击B溅射C注入D撞击、溅射
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单选题Mohr method通常用于测定下列哪些离子（）ACl-，Br-，I-BCl-，Br-，CN-CCl-，Br-，I-，CN-DCl-，Br-，I-，CN-SCN-
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单选题离子色谱柱上，下列常见阴离子的保留时间从小到大排列正确的是（）。AF—，Cl—，Br—，I—BI—，Br—，Cl—，FCF—，C1—，I—，Br—DC1—，I—，Br—，F—
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判断题离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。A对B错
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单选题离子束加工技术利用注入效应加工的是（）A离子束刻蚀B溅射镀膜C离子镀D离子注入
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