多选题集成电路布图设计保护的客体，集成电路应具有下列哪些条件？（）A以半导体材料为基片B至少具有一个是有源元件的两个以上元件C部分或全部互连线路集成在基片之中或者基片之上D以铜为基片
多选题
集成电路布图设计保护的客体，集成电路应具有下列哪些条件？（）
A
以半导体材料为基片
B
至少具有一个是有源元件的两个以上元件
C
部分或全部互连线路集成在基片之中或者基片之上
D
以铜为基片
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根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
以下关于集成电路布图设计的说法错误的有（ ）A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。B.客体是集成电路而不是布图设计。C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的
有关集成电路布图设计下列说法错误的是（ ）A.集成电路布图设计又称工艺技术B.集成电路布图设计又称掩模作品C.集成电路布图设计是附着与各种载体上的电子元件和连接这些电子元件的连线的有关布局设计。D.集成电路布图设计又称拓扑图
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法正确的是（）。A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些说法是正确的？（）A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
单选题在《知识产权协定》规定的集成电路布图设计中，不违法的是 ( )A为商业目的进口布图设计B销售受保护的布图设计C在没有理由知道的情况下分售含有受保护布图设计的集成电路D销售含有受保护的布图设计的集成电路的物品
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）A某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计B乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用C丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分D丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）A集成电路布图设计登记申请表B集成电路布图设计的说明书和权利要求书C集成电路布图设计的复制件或者图样D集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
问答题简述集成电路布图设计的保护条件。