下面有关化学位移描述正确的是()。A、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值小B、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值大C、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值小D、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值大

下面有关化学位移描述正确的是()。

  • A、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值小
  • B、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值大
  • C、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值小
  • D、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值大

相关考题:

下面不是脂肪抑制成像技术的是A、化学位移频率选择饱和技术B、化学位移水-脂反相位饱和成像技术C、幅度选择饱和法D、化学位移成像技术E、水激励技术

有关化学位移伪影的叙述,下列哪一项是错误的( )A.化学位移伪影是一种装备伪影B.化学位移伪影与呼吸运动有关C.化学位移伪影与主磁场强度有关D.化学位移伪影与观察视野有关E.化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

下面有关视图的描述正确的是

下列有关化学反应的描述中正确的是( )

关于位移和路程,下列说法中正确的是:()A、位移的大小可以大于路程B、位移的大小只能小于路程C、位移是矢量,描述质点位置的变化;路程是标量,描述质点的运动轨迹长度D、位移的大小可能大于路程

下面有关酶的描述,正确的是()。A、所有的酶都含有辅基或辅酶B、只能在体内起催化作用C、大多数酶的化学本质是蛋白质D、能改变化学反应的平衡点,加速反应的进行E、以上都不正确

什么是化学位移?影响化学位移的因素。

有关化学位移伪影的叙述,下列哪一项是错误()。A、化学位移伪影是一种装备伪影B、化学位移伪影与呼吸运动有关C、化学位移伪影与主磁场强度有关D、化学位移伪影与观察视野有关E、化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

有关化学位移伪影的叙述,下列正确的是()A、化学位移伪影是一种装备伪影B、化学位移伪影与呼吸运动有关C、化学位移伪影与主磁场强度有关D、化学位移伪影以观察视野有关E、化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

下面不是脂肪抑制成像技术的是()A、化学位移频率选择饱和技术B、化学位移水一脂反相位饱和成像技术C、幅度选择饱和法D、化学位移成像技术E、水激励技术

有关化学位移伪影的叙述,下列哪项是错误的()A、化学位移伪影是一种装备伪影B、化学位移伪影与呼吸运动无关C、化学位移伪影与主磁场强度有关D、化学位移伪影与观察视野有关E、化学位移伪影可以通过改变相位编码来消除

单选题关于化学位移,错误的是(  )。A化学位移可以引起局部磁场的改变B化学位移是磁共振波谱的基础C化学位移饱和成像可用来突出或抑制某种组织的信号D化学位移特性可消除化学位移伪影E利用不同分子之间的化学位移,可以生成不同类型的图像

单选题下面有关化学位移描述正确的是()。A质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值小B质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值大C质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值小D质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值大

单选题关于化学位移成像的叙述,错误的是(  )。A化学位移与磁场强度无关BMRS的成像基础是化学位移C可利用化学位移来实现抑制脂肪成像D可利用化学位移来实现抑制水成像E化学位移会导致化学位移伪影

多选题有关化学位移伪影的叙述,下列正确的是()A化学位移伪影是一种装备伪影B化学位移伪影与呼吸运动有关C化学位移伪影与主磁场强度有关D化学位移伪影以观察视野有关E化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

单选题下面不是脂肪抑制成像技术的是()A化学位移频率选择饱和技术B化学位移水-脂反相位饱和成像技术C幅度选择饱和法D化学位移成像技术E水激励技术

单选题下面不是脂肪抑制成像技术的是()A化学位移频率选择饱和技术B化学位移水一脂反相位饱和成像技术C幅度选择饱和法D化学位移成像技术E水激励技术

单选题TMS的δ=0,从化合物的结构出发,它的正确含义是()。A不产生化学位移B化学位移最大C化学位移最小