全1：2义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
全1：2义齿印模型的制作中，以下不正确的是
A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右
B.灌注的模型厚度不超过10mm
C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线
D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟
E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
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全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A、个别托盘制作是在印模膏印模的组织面和边缘刮除2mm左右B、灌注的模型厚度不超过10mmC、用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D、用刀沿上述连线刻一条深1～1.5mm的沟E、沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
全口义齿印模和模型的制作中，以下不正确的是A．在印模膏阴模的组织面和边缘均匀地刮除2mm左右B．灌注的模型厚度不超过10mmC．用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后 2mm的连线D．用刀沿上述连线刻一深约1～1.5mm的沟E．沿上述的沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模的组织面和边缘刮除2mm左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A．在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右B．灌注的模型厚度不超过10mmC．用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D．用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E．沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模的组织面和边缘刮除2mm左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1.5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.腭杆组织面缓冲B.取下腭杆C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆D.不做处理，让患者把义齿戴走E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1.5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm