高能电子束的PDD曲线可大致分为以下几个区域 A、剂量建成区、高剂量坪区、低剂量区B、表面剂量区、低剂量坪区、剂量上升区C、表面剂量区、剂量跌落区、低剂量坪区以及X射线污染区D、表面剂量区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区E、剂量建成区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区
高能电子束的PDD曲线可大致分为以下几个区域
A、剂量建成区、高剂量坪区、低剂量区
B、表面剂量区、低剂量坪区、剂量上升区
C、表面剂量区、剂量跌落区、低剂量坪区以及X射线污染区
D、表面剂量区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区
E、剂量建成区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区
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高能电子束的PDD曲线可大致分为A、剂量建成区、高剂量坪区、低剂量区B、表面剂量区、低剂量坪区、剂量上升区C、表面剂量区、剂量跌落区、低剂量坪区以及X射线污染区D、表面剂量区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区E、剂量建成区、高剂量坪区、剂量跌落区以及X射线污染区
当高能电子束能量增大时，其PDD曲线随能量变化的关系是A、PDD表面剂量减少、坪区增宽、剂量梯度减少以及X射线污染增加B、PDD表面剂量增加、坪区增宽、剂量梯度减少以及X射线污染增加C、PDD表面剂量增加、坪区变窄、剂量梯度减少以及X射线污染增加D、PDD表面剂量增加、坪区增宽、剂量梯度增大以及X射线污染增加E、PDD表面剂量增加、坪区增宽、剂量梯度减少以及X射线污染减少
对高能的X射线，通常采用辐射质指数来描述射线质，用水模体内不同深度的值来表示定义为A、TAR20/TAR10或PDD10/PDD20B、TPR20ITPR10或PDD10/PDD20C、TPR10/TPR20或PDD20/PDD10D、TPR20/TPR10或PDD20/PDD10E、TPR20/TMR10或PDD10/PDD20
使用高能电子束照射时，其PDD随射野面积变化的关系是A、射野较大时PDD随深度增加而迅速减少，射野减小时PDD不再随射野增加而变化B、射野较小时PDD随深度增加而迅速减少，射野减小时PDD不再随射野增加而变化C、射野较小时PDD随深度增加而迅速减少，射野增大时PDD不再随射野增加而变化D、低能时射野对PDD的影响较大E、对较高能量电子束，使用较小的射野时PDD随射野的变化较小
以下不属于材料同步送进高能束成形工艺的是A．激光立体成形B．电子束熔丝沉积C．电弧熔丝沉积D．电子束选区熔化