对曝光时间所述错误的是（）。A、较细网布加长曝光B、有色网布加长曝光C、工程数增加曝光加长D、时间随距离改变

对曝光时间所述错误的是（）。

  • A、较细网布加长曝光
  • B、有色网布加长曝光
  • C、工程数增加曝光加长
  • D、时间随距离改变

相关考题：

采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。 A.比标准曝光时间减少1/5的时间B.比标准曝光时间增加1/5的时间C.比标准曝光时间减少1/2的时间D.比标准曝光时间增加1/2的时间
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射线源尺寸较大时应如何补救?() A、增加射源至物件的距离B、增加增感屏厚度C、减少曝光时间D、增加曝光时间
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调整运动滤线栅时，正确的叙述是A．运动时间短于曝光时间B．运动时间越长越好C．运动时间与曝光时间相等D．运动时间与曝光时间无关E．运动时间应长于曝光时间的1/5
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晒版时避免乱反射影响应（）A、使用有色的网布B、加长曝光时间C、采多点灯源D、距离缩短
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比曝光测试表细小图纹晒版时可（）A、加长曝光时间B、略少于测试标准时间C、维持测试标准时间
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膜厚测试器主要用来测试（）A、网布之网目B、网布的张力C、版膜的厚度D、版膜曝光时间
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曝光不足败版，重新确定曝光时间可采（）A、同一网版多段曝光B、以不同目数网布试相同曝光C、使用数个网版分别测试D、以不同颜色网布测试
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（）较不会影响曝光时间。A、工程数B、网布颜色C、网布厚度D、图纹
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网版图纹显像不佳之原因，以下叙述（）错误A、曝光过度B、原稿底片对比反差高C、使用白色网布D、网版涂布乳剂后存放时间过长
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X线阶段曝光测定法的叙述，错误的是（）。A、时间阶段曝光法改变曝光时间取得照射量B、时间阶段曝光法X线质固定C、自举法用铝梯厚度改变X线强度D、铝梯下加一层0.5mm厚的铅片E、存在间歇效应的影响
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调整运动滤线栅时，正确的叙述是（）A、运动时间短于曝光时间B、运动时间越长越好C、运动时间与曝光时间相等D、运动时间与曝光时间无关E、运动时间应长于曝光时间的1/5
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闪电的间歇时间随闪击数增多而加长。
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曝光因子表达了哪几个参数的相互关系（）A、管电压、管电流、曝光时间；B、管电压、曝光量、焦距C、管电流、曝光时间、焦距；D、底片黑度、曝光量、焦距。
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以下那一条不表示曝光量（）A、曝光量是透照时间与射线强度的乘积B、管电流与曝光时间的乘积C、管电压与曝光时间的乘积D、对于γ射线，常用γ射线源的放射性活度与曝光时间的乘积表示曝光量
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管电流一定时，为了增加底片的对比度，应该（）A、增加KV，增加曝光时间B、增加KV，减少曝光时间C、减少KV，增加曝光时间D、减少KV，减少曝光时间
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使用铅或铅化锑高原子序数增感屏的目的是什么？（）A、减小焦距、缩短曝光时间B、减少散射线、缩短曝光时间C、加长焦距、增加曝光时间D、降低摄片条件
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胸骨后前位摄影条件正确的选择是（）A、低千伏高毫安长曝光时间B、高千伏高毫安长曝光时间C、低千伏低毫安短曝光时间D、高千伏高毫安短曝光时间E、低千伏低毫安长曝光时间
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曝光曲线是（）。A、 曝光量和管电压随底片黑度变化的曲线B、 管电压随曝光量变化的曲线C、 曝光量随材料厚度变化的曲线D、 曝光量和管电压随材料厚度变化的曲线
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以下所述曝光正确的是（）A、高精密型乳剂时间长B、细线条可减少曝光时间C、高网线版曝光时间长D、单液型乳剂曝光时间长
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（）较易产生水纹痕迹。A、曝光过度B、冲洗过度C、网布太细D、曝光不足
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采用散射膜进行二次曝光除脏时，应采用（）进行曝光，然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。A、比标准曝光时间减少1/5的时间B、比标准曝光时间增加1/5的时间C、比标准曝光时间减少1/2的时间D、比标准曝光时间增加1/2的时间
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单选题调速运动滤线栅时，正确的叙述是（　　）。A运动时间短于曝光时间B运动时间越长越好C运动时间与曝光时间相等D运动时间与曝光时间无关E运动时间应长于曝光时间的1/5
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单选题X线阶段曝光测定法的叙述，错误的是（）。A时间阶段曝光法改变曝光时间取得照射量B时间阶段曝光法X线质固定C自举法用铝梯厚度改变X线强度D铝梯下加一层0.5mm厚的铅片E存在间歇效应的影响
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单选题管电流一定时，为了增加底片的对比度，应该（）A增加KV，增加曝光时间B增加KV，减少曝光时间C减少KV，增加曝光时间D减少KV，减少曝光时间
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单选题以下那一条不表示曝光量（）A曝光量是透照时间与射线强度的乘积B管电流与曝光时间的乘积C管电压与曝光时间的乘积D对于γ射线，常用γ射线源的放射性活度与曝光时间的乘积表示曝光量
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单选题使用铅或铅化锑高原子序数增感屏的目的是什么？（）A减小焦距、缩短曝光时间B减少散射线、缩短曝光时间C加长焦距、增加曝光时间D降低摄片条件
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单选题射线源尺寸较大时应如何补救？（）A增加射源至物件的距离B增加增感屏厚度C减少曝光时间D增加曝光时间
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