简述辉光离子炉的构造。

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为了提高气门杆的疲劳强度和耐磨性,一般对其进行()处理。 A、氧化B、淬火C、辉光离子氮化D、喷钼
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钎焊按热源区分则有( )、等离子、辉光放电钎焊等。A.红外B.电子束C.强烈阳光D.激光
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PECVD就是利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的CVD技术。
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国际上统一规定，工业用射频等离子体辉光放电的射频频率为（）MHz。
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国际上统一规定，工业用射频等离子体辉光放电的射频频率为（)MHz。
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直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。A．阳B．阴C．空
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辉光球是球内稀薄气体通电后产生的辐射状辉光，以下哪种气体不能被充入辉光球内：A．氩气B．氖气C．氧气D．氙气
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我们在”辉光盘“上看到的美丽的辉光与原子中电子能级跃迁有关。
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7、PECVD就是利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的CVD技术。
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