使用HMT(高级微调)显影方法时,磁性显影器磁穗刷与光导体表面接触。

使用HMT(高级微调)显影方法时,磁性显影器磁穗刷与光导体表面接触。


相关考题:

显影液配制和显影操作注意事项,错误的是A.显影液配制时,应使用不含硫黄及铁等物质的水,最好使用大桶水。B.显影操作时,应注意清除显影液表面漂浮的氧化层。C.手要保持清洁、干燥,以免造成照片的人工伪影。D.显影完毕,必须注意回滴,以免造成浪费。E.动作要轻,不要划伤药膜。

在显影过程中与照片灰雾产生无关的是:A.显影时间过长B.显影温度低C.显影液与空气接触氧化D.显影液中含有硫化物E.安全灯与胶片距离过近

在显影过程中与照片灰雾产生无关的是A、显影时间过长B、显影温度高C、显影液与空气接触氧化D、显影液中含有硫化物E、安全灯与胶片距离过近

显影液长时间放置后,显影能力下降的原因是A.接触空气,显影液氧化B.显影液被稀释SXB 显影液长时间放置后,显影能力下降的原因是A.接触空气,显影液氧化B.显影液被稀释C.显影液pH值降低D.显影液中有机物的沉积E.保护剂含量减少

不属于显影液空气氧化影响因素的是A.显影液使用时间B.显影液耐氧化性能C.显影液与空气接触面积D.显影液与胶片特性的匹配关系E.显影液温度

使碳粉更容易吸在光导体表面上,显影过程中还要施加电压为()A、ACB、DCC、DC、ACD、所有说法都不对

显影偏压(Vdc)被施加在显影辊上,将适量的碳粉吸在光导体表面上。

在应用磁粉探伤方法检测铁磁性材料近表面缺陷时,缺陷距表面埋藏深度越深则检测越困难

下列静电复印机显影方法中,属于湿法显影的是()A、磁刷显影B、单组份显影C、跳动显影D、液体显影

冲版显影时()A、以水冲并以刷子擦刷显影B、以喷水枪冲版即可C、以脱脂刷沾水擦刷D、以布沾水擦刷

显影操作时,不断搅拌底片的目的是()A、使未曝光的溴化银离子脱落B、驱除附在底片表面的气孔C、使曝过光的溴化银加速溶解D、使底片表面的显影液更新

在显影操作时不断地进行搅拌其目的是()A、新鲜的显影液不断输送到胶片的表面B、不断带走显影时所产生附在胶片表面上的溴化物及显影剂的氧化物C、提高显影速度D、以上都对

显影操作时,不断搅动底片的目的是()A、使未曝光的溴化银粒子脱落;B、驱除附在底片表面的气孔,使显影均匀,加快显影;C、使曝过光的溴化银加速溶解;D、以上全是。

不属于显影液空气氧化影响因素的是()A、显影液使用时间B、显影液耐氧化性能C、显影液与空气接触面积D、显影液与胶片特性的匹配关系E、显影液温度

对逆磁性和顺磁性导体,通常可用磁粉探伤方法检验

变压器通常使用()材料。A、软磁性B、硬磁性C、矩磁

黑白显影的方法有()A、盘中显影B、罐中显影C、暗室显影D、槽箱显影E、冲洗机自动显影

关于放射自显影技术(autoradiography),下列哪项错误()A、利用放射性同位素探测细胞内生物大分子动态变化的一种方法B、包括宏观自显影、光镜自显影和电镜自显影等3种类型C、具有灵敏度高和操作简便、无污染等优点D、自显影时常用的感光材料包括X光胶片和原子核乳胶等E、光镜自显影一般多用液体核子乳胶浸膜等方法进行

正常情况下,显影磁辊有效面的碳粉量取决于()A、复印件的浓淡度B、显影仓内碳粉的浓度C、显影偏压的高低D、磁穗刮板的高度

利用铁磁性材料表面与近表面缺陷会引起磁率发生变化,磁化时在表面上产生漏磁场,并采用磁粉、磁带或其他磁场测量方法来记录与显示缺陷的方法叫作()。

单选题不属于显影液空气氧化影响因素的是()A显影液使用时间B显影液耐氧化性能C显影液与空气接触面积D显影液与胶片特性的匹配关系E显影液温度

单选题关于放射自显影技术(autoradiography),下列哪项错误()A利用放射性同位素探测细胞内生物大分子动态变化的一种方法B包括宏观自显影、光镜自显影和电镜自显影等3种类型C具有灵敏度高和操作简便、无污染等优点D自显影时常用的感光材料包括X光胶片和原子核乳胶等E光镜自显影一般多用液体核子乳胶浸膜等方法进行

单选题显影操作时,不断搅动底片的目的是()A使未曝光的溴化银粒子脱落;B驱除附在底片表面的气孔,使显影均匀,加快显影;C使曝过光的溴化银加速溶解;D以上全是。

单选题下列静电复印机显影方法中,属于湿法显影的是()A磁刷显影B单组份显影C跳动显影D液体显影

多选题显影操作时,不断搅拌底片的目的是()A使未曝光的溴化银离子脱落B驱除附在底片表面的气孔C使曝过光的溴化银加速溶解D使底片表面的显影液更新

判断题对逆磁性和顺磁性导体,通常可用磁粉探伤方法检验。A对B错

单选题在显影操作时不断地进行搅拌其目的是()A新鲜的显影液不断输送到胶片的表面B不断带走显影时所产生附在胶片表面上的溴化物及显影剂的氧化物C提高显影速度D以上都对