问答题在半导体制造技术中，高k介质和低k介质各自应用在什么地方，为什么？

问答题
在半导体制造技术中，高k介质和低k介质各自应用在什么地方，为什么？

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多媒体数据的存储介质不包括:()。 A.传输介质B.光盘介质C.半导体介质D.磁介质
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浮球式液位计适合于如下哪一种情形的使用条件()。 A、介质粘度高、压力低、温度高B、介质粘度高、压力低、温度低C、介质粘度低、压力高、温度低D、介质粘度高、压力高、温度低
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在介质损耗角正切的测量中,正接法和反接法西林电桥各应用在什么条件下?
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以K2Cr2O7为标准溶液，在酸性介质中反应时，K2Cr2O7 的基本单元是(1/6K2Cr2O7)。此题为判断题(对，错)。
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改变管内介质的流动方向，总传热系数K如何变化?A、改变管内介质的流动方向，总传热系数K值增加。B、改变管内介质的流动方向，总传热系数K值减小。C、改变管内介质的流动方向，总传热系数K值不变。
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下列关于含水层渗透系数K与含水层介质粒径d和不同水质之间关系的说法中，正确的是（　）。A.d越小，K越大B.d越大，K越大C.K与d无关，与水黏滞性相关D.K与d相关，与水黏滞性无关
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25#K11塔的洗涤介质有（）
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K2Cr2O7可在HCl介质中测定铁矿中Fe的含量。
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为什么说洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术？
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耳蜗外侧的两个导管，即前庭阶和鼓阶构成了骨迷路它们被中阶分开，里面充满了外淋巴，是一种（）的电解液A、高K+，低Na+B、高Na+，低K+C、高Ca2+，低K+D、高Ca2+，低Na+E、高K+，低Ca2+
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以K2Cr2O7为标准滴定溶液，在酸性介质中反应时，为什么K2Cr2O7的基本单元为（1/6K2Cr2O7）？
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以K2Cr2O7为标准溶液，在酸性介质中反应时，K2Cr2O7的基本单元是（）。A、1/6K2Cr2O7；B、1/5K2Cr2O7；C、1/4K2Cr2O7；D、1/2K2Cr2O7；
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（）的存储介质有别于其他移动存储器的磁介质和光介质，为半导体电介质。A、软盘B、光盘C、优盘D、硬盘
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真核细胞的胞质中，Na+和K+平时相对胞外，保持（）。A、浓度相等B、[Na+]高，[K+]低C、[Na+]低，[K+]高D、[Na+]是[K+]的3倍
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无限介质增殖系数〔K∞〕infinitemultiplicationfactor
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EDTA滴定中，介质pH越低，则αY（H）值越（），K’（MY）值越（），滴定的pM’突跃越（），化学计量点的pM’值越
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下列关于含水层渗透系数K和介质粒径d之间的关系，说法正确的是（）。A、d越小，K越大B、d越大，K越大C、K与d无关，与液体粘滞性相关D、K与d相关，与液体粘滞性无关
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新一代超级柜台电子银行签约交易，支持绑定哪些安全介质（）。A、蓝牙K宝B、音频K宝C、K令D、口令卡
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个人客户在办理网上银行注册时，如果选择网银证书介质为IE，必须（）。A、购买K宝证书介质B、要绑定动态口令卡C、既要购买K宝证书介质，又要绑定动态口令卡D、将证书下载到自己的U盘上才能使用
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单选题真核细胞的胞质中，Na+和K+平时相对胞外，保持（）。A浓度相等B[Na+]高，[K+]低C[Na+]低，[K+]高D[Na+]是[K+]的3倍
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单选题耳蜗外侧的两个导管，即前庭阶和鼓阶构成了骨迷路它们被中阶分开，里面充满了外淋巴，是一种（）的电解液A高K+，低Na+B高Na+，低K+C高Ca2+，低K+D高Ca2+，低Na+E高K+，低Ca2+
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单选题浮球式液位计适合于如下哪一种情形的使用条件？（）A 介质粘度高、压力低、温度高  B 介质粘度高、压力低、温度低  C 介质粘度低、压力高、温度低D 介质粘度高、压力高、温度低
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问答题为什么栅介质层的厚度减少有一个大致的极限？为什么现在需要高K值（介电常数）的栅介质？低K介质用在什么地方？为什么？
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单选题改变管内介质的流动方向，总传热系数K如何变化（）。A改变管内介质的流动方向，总传热系数K值增加B改变管内介质的流动方向，总传热系数K值减小C改变管内介质的流动方向，总传热系数K值不变
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填空题25#K11塔的洗涤介质有（）
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