单选题上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求（ ）。A腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C腭杆中部与模型应有0.1mm距离D腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E腭杆中部与模型应完全贴合
单选题
上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求（ ）。
A
腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离
B
腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离
C
腭杆中部与模型应有0.1mm距离
D
腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离
E
腭杆中部与模型应完全贴合
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上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E、腭杆中部与模型应完全贴合
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