单选题为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力()A窝洞要在牙本质有一定深度B窝洞要求呈盒形C去除无基釉质D入口小而底部大的洞形E窝洞外形线圆缓

单选题
为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力()
A

窝洞要在牙本质有一定深度

B

窝洞要求呈盒形

C

去除无基釉质

D

入口小而底部大的洞形

E

窝洞外形线圆缓


参考解析

解析: 暂无解析

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为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力:A.窝洞要在牙本质有一定深度B.窝洞要求呈盒形C.去除空悬釉质D.入口小而底部大的洞形

为达到良好的抗力形,下列哪条是错误的:A.去除无基釉质B.洞在牙本质有一定的深度,C.洞底线角明确D.去除薄壁弱尖

制备倒凹是为了A、获得良好的抗力形B、便于充填C、美观D、获得良好的固位形E、便于放置盖髓剂

制备倒凹是为() A.获得良好的抗力形B.便于垫底C.便于充填D.获得良好的固位形E.便于防止盖髓剂

后牙鸠尾峡的宽度一般为颊舌牙尖间距的1/3~1/2,主要是为了A.获得良好的抗力形B.获得良好的固位形和抗力形C.获得良好的预防性扩展D.彻底去除龋坏的牙体组织E.充填体的美观

为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力:()A、窝洞要在牙本质有一定深度B、窝洞要求呈盒形C、去除空悬釉质D、入口小而底部大的洞形

为达到良好的抗力形,下列说法错误的是A、去除无基釉质B、洞在牙本质有一定的深度C、洞底线角明确D、去除薄壁弱尖

制备倒凹是为()A、获得良好的抗力形B、便于垫底C、便于充填D、获得良好的固位形E、便于防止盖髓剂

为达到良好的抗力形,下列哪条是错误的()。A、去除无基釉质B、洞在牙本质有一定的深度C、洞底线角明确D、去除薄壁弱尖E、都不正确

为达到良好的抗力形窝洞应制备入口小而底部大的洞形。

为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力()A、窝洞要在牙本质有一定深度B、窝洞要求呈盒形C、去除无基釉质D、入口小而底部大的洞形E、窝洞外形线圆缓

单选题为达到良好的抗力形,下列哪一条不利于抗力:()A窝洞要在牙本质有一定深度B窝洞要求呈盒形C去除空悬釉质D入口小而底部大的洞形

判断题为达到良好的抗力形窝洞应制备入口小而底部大的洞形。A对B错

单选题为达到良好的抗力形,下列说法错误的是A去除无基釉质B洞在牙本质有一定的深度C洞底线角明确D去除薄壁弱尖

单选题为达到良好的抗力形,下列哪条是错误的()。A去除无基釉质B洞在牙本质有一定的深度C洞底线角明确D去除薄壁弱尖E都不正确