为避免EDI组件浓水中离子浓度过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20%，排放掉的浓水由EDI()补充。A.浓水B.极水C.淡水D.进水
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，浓水流量应为给定范围的下限。A对B错
EDI组件实际运行电流低于规定值，可能引起离子极化现象使产品水的电阻率降低。A对B错
EDI组件给水二氧化碳含量和pH值将明显影响产品水电阻率。A对B错
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。A对B错
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口
EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。A对B错
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。A对B错
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。A对B错
EDI组件实际运行电流低于规定值，可能引起离子极化现象使产品水的电阻率降低。
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。A、浓水B、极水C、淡水D、给水
为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，浓水出口应当保持一定的背压。
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。
变价金属离子对EDI组件的影响是离子不能被完全清除，使产品水的电阻率降低。
EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。
EDI组件给水二氧化碳含量和pH值将明显影响产品水电阻率。
判断题EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，浓水流量应为给定范围的下限。A对B错
判断题EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。A对B错
判断题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。A对B错
判断题EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。A对B错
单选题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口
判断题为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。A对B错
判断题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高0.03～0.07 MPa。A对B错
判断题EDI组件给水二氧化碳含量和pH值将明显影响产品水电阻率。A对B错
单选题为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。A浓水B极水C淡水D给水