芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:() A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPCB.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图


相关考题:

以下对于方差分析的描述错误的一项是A、成组设计方差分析组内变异反映了随机误差B、配伍组变异反映了随机误差C、组间变异既包含了研究因素影响又包含了随机误差D、成组设计的两样本均数的比较是成组设计方差分分析的特殊情况E、配对设计的t检验是配伍组方差分析的特殊情况

关于方差分析以下正确的有A、单因素方差分析组内变异反映了随机误差B、配伍组变异反映了随机误差C、组间变异既包含了研究因素的影响,也包含随机误差D、成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况E、配对设计的t检验是配伍组方差分析的特殊情况

关于方差分析以下错误的一项为A.单因素方差分析组内变异反映了随机误差B.配伍组变异反映了随机误差C.组间变异既包含了研究因素的影响,也包含了随机误差D.成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况E.配对设计的t检验是配伍组方差分析的特殊情况

H车间质量监督部门负责测量芯片镀膜厚度,其生产规格是500±50μ(微米)。测厚仪在05年2月10日曾由上级主管部门进行过校准。为了监测此测厚系统的性能,从3月1日开始,每天早晨正式工作前,先对一个厚度500μ的标准片连续测量5次,坚持检测30天,记录测量的偏差值,共得到150个数据。从数据上看,这30天的状况是受控的,所有的点都落入控制限范围内。计算后得知,这150个偏差值数据的平均值X=0.94μ,标准差为S=1.42μ,经单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显着差异。总之,整个测量系统的准确性(Accuracy)、精确性(Precision)及稳定性(Stability)都是合格的。这里“此测量系统的准确性(Accuracy)是合格的”指的是:()A.这30天所有的数据点都落入控制限范围内。B.X=0.94μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足%GR&R(P/TV)要求。C.S=1.42μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足P/T要求。D.对于150个数据进行单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显着差异。

为了判断A车间生产的垫片的变异性是否比B车间生产的垫片的变异性更小,各抽取25个垫片后,测量并记录了其厚度的数值,发现两组数据不是正态分布。下面应该进行的是:() A.两样本F检验B.两样本Levene检验C.两样本配对差值的T检验D.两样本Mann-Whitney秩和检验

关于方差分析以下正确的有A.单因素方差分析组内变异反映了随机误差B.配伍组变异反映了随机误差C.组间变异既包含了研究因素的影响,也包含随机误差D.成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况E.配对设计的‘检验是配伍组方差分析的特殊情况

使用方差分析的前提是( )。A.每个水平总体的分布都是正态分布 B.各总体的均值相等C.各总体的方差相等 D.各数据相互独立E.各总体的均值不相等

方差分析中,组间变异主要反映A.个体差异B.抽样误差C.测量误差D.处理因素的作用E.随机误差

在进行单因素方差分析时,全部观察值与总均数差异的平方和称为( )。A.总变异B.组内变异C.组间变异D.组间均方E.组距

在方差分析中,(  )反映的是样本数据与该组平均值的差异A.总离差B.组间变异C.抽样变异D.组内变异

镀膜净化间规定每3小时记录一次温湿度。

完全随机设计的方差分析中,组间变异主要反映( )A、随机误差B、处理因素的作用C、测量误差D、个体差异

H车间质量监督部门负责测量芯片镀膜厚度,其生产规格是500±50μ(微米)。测厚仪在11年2月10日曾由上级主管部门进行过校准。为了监测此测厚系统的性能,从3月1日开始,每天早晨正式工作前,先对一个厚度为500μ的标准片连续测量5次,坚持检测30天,记录测量的偏差值,共得到150个数据。从数据上看,这30天的状况是受控的,所有的点都落入控制限范围内。计算后得知,这150个偏差值数据的平均值X=0.94μ,标准差为S=1.42μ,经单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异。总之,整个测量系统的准确性(Accuracy)、精确性(Precision)及稳定性(Stability)都是合格的。这里“此测量系统的准确性(Accuracy)是合格的”指的是()。A、这30天所有的数据点都落入控制限范围内B、X=0.94μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足GRR要求C、S=1.42μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足P/T要求D、对于150个数据进行单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()A、变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPCB、其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一MR)控制图即可C、求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程D、解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

某车间的任务是将厚度为60毫米的厚钢板热压45毫米的薄钢板。为了检验厚钢板温度对于热压厚度是否有显著影响,选定了1220、1260、1300三种初始温度,各热压10块厚钢板,共记录了3组合计30个热压厚度数据。在分析时,准备使用单因子方差分析ANOVA比较三种初始温度下的热压厚度是否有显著差异,为此应考虑验证下列哪些条件:()A、3组数据是否都满足独立性B、3组数据是否都满足正态性C、3组数据合并后满足正态性D、3组数据方差是否相等

在为芯片镀膜的生产过程中,膜厚是关键尺寸。为了监控镀膜的厚度,每间隔1小时在生产线上终端抽取1片芯片,每片测量3行3列共9个固定位置处的厚度并作为一个子组数据,希望建立相应有效的控制图,最佳的选择是:()A、X-R控制图B、X-S控制图C、单值移动极差控制图。D、C图或U图。

芯片镀膜是某企业生产中关键的一步,为此必须对于镀膜厚度进行监控。通常将芯片固定在测试台后,由中心向外每45度画出射线将芯片分为等面积的8个扇形区域,在每个扇形内任意选取一点,测量出这8个点的厚度。现在生产已经相当稳定,为了维持它的稳定性,决定对于厚度的均值及波动都进行检测。这时,按国家标准的规定,控制图应该选用:()A、使用Xbar-R控制图B、使用Xbar-S控制图C、使用p图或np图D、使用C图或U图

为了判断A车间生产的垫片的变异性是否比B车间生产的垫片的变异性更小,各抽取25个垫片后,测量并记录了其厚度的数值,发现两组数据都是正态分布。下面应该进行的是()A、等方差检验B、双样本T检验C、单样本T检验

方差分析中,组间变异主要反映()A、个体差异B、抽样误差C、测量误差D、随机误差E、处理因素的作用

多选题某车间的任务是将厚度为60毫米的厚钢板热压45毫米的薄钢板。为了检验厚钢板温度对于热压厚度是否有显著影响,选定了1220、1260、1300三种初始温度,各热压10块厚钢板,共记录了3组合计30个热压厚度数据。在分析时,准备使用单因子方差分析ANOVA比较三种初始温度下的热压厚度是否有显著差异,为此应考虑验证下列哪些条件:()A3组数据是否都满足独立性B3组数据是否都满足正态性C3组数据合并后满足正态性D3组数据方差是否相等

单选题H车间质量监督部门负责测量芯片镀膜厚度,其生产规格是500±50μ(微米)。测厚仪在11年2月10日曾由上级主管部门进行过校准。为了监测此测厚系统的性能,从3月1日开始,每天早晨正式工作前,先对一个厚度为500μ的标准片连续测量5次,坚持检测30天,记录测量的偏差值,共得到150个数据。从数据上看,这30天的状况是受控的,所有的点都落入控制限范围内。计算后得知,这150个偏差值数据的平均值X=0.94μ,标准差为S=1.42μ,经单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异。总之,整个测量系统的准确性(Accuracy)、精确性(Precision)及稳定性(Stability)都是合格的。这里“此测量系统的准确性(Accuracy)是合格的”指的是()。A这30天所有的数据点都落入控制限范围内BX=0.94μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足GRR要求CS=1.42μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足P/T要求D对于150个数据进行单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异

单选题完全随机设计的方差分析中,组间变异主要反映( )A随机误差B处理因素的作用C测量误差D个体差异

单选题方差分析中,组间变异主要反映()A个体差异B抽样误差C测量误差D随机误差E处理因素的作用

单选题芯片镀膜是某企业生产中关键的一步,为此必须对于镀膜厚度进行监控。通常将芯片固定在测试台后,由中心向外每45度画出射线将芯片分为等面积的8个扇形区域,在每个扇形内任意选取一点,测量出这8个点的厚度。现在生产已经相当稳定,为了维持它的稳定性,决定对于厚度的均值及波动都进行检测。这时,按国家标准的规定,控制图应该选用:()A使用Xbar-R控制图B使用Xbar-S控制图C使用p图或np图D使用C图或U图

单选题为了判断A车间生产的垫片的变异性是否比B车间生产的垫片的变异性更小,各抽取25个垫片后,测量并记录了其厚度的数值,发现两组数据都是正态分布。下面应该进行的是()A等方差检验B双样本T检验C单样本T检验

多选题使用方差分析的前提是(  )。A每一水平下总体的分布都是正态分布B各总体的均值相等C各总体的方差相等D各数据相互独立

单选题关于方差分析以下错误的一项为(  )。A单因素方差分析组内变异反映了随机误差B配伍组变异反映了随机误差C组间变异即包含了研究因素的影响,也包含随机误差D成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况E配对设计的t检验是配伍组方差分析的特殊情况